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KAIST, 전도성 MOF 박막으로 트랜지스터 게이트전극 구현

연구반도체·디스플레이 소재전자신문 원문 기준원문 발행 2026.10.26
반도체·디스플레이 소재 분야 사진 — 이 글의 내용을 찍은 사진이 아닙니다 · 회로가 새겨진 실리콘 웨이퍼 · 사진 Rob Bulmahn (CC BY 2.0)

KAIST 박선아 교수팀이 국립부경대·포스텍·연세대와 함께 전기가 흐르는 금속-유기 구조체(MOF)를 화학기상증착(CVD)으로 얇고 균일한 박막으로 만들고, 포토리소그래피와 식각으로 미세 패턴을 형성해 전계효과 트랜지스터(FET)의 게이트 전극으로 구현했다. 가공 후에도 소재의 구조와 화학적 상태, 전기가 흐르는 성질이 대부분 유지됐다. 연구팀은 이 전극을 이황화몰리브덴, 이텔루륨화몰리브덴, 산화물 반도체 등 세 종류의 반도체에 적용해 작동하는 것을 확인했다. 금속과 유기 분자 조합을 바꾸면 전기적 성질을 조절할 수 있어, 반도체가 요구하는 전압에 맞춘 맞춤형 전극 설계에 활용될 것으로 기대된다.

핵심

  1. 전도성 MOF를 CVD로 박막화하고 포토리소그래피·식각으로 패턴화해 게이트 전극으로 구현
  2. 가공 후에도 소재의 구조·화학적 상태·전기가 흐르는 성질이 대부분 유지됨
  3. 이황화몰리브덴, 이텔루륨화몰리브덴, 산화물 반도체 등 세 종류 반도체에 적용해 작동 확인
  4. 금속-유기 분자 조합을 바꿔 전기적 성질을 조절할 수 있어 맞춤형 전극 설계 가능성 제시

원문이 밝힌 한계

  • 다양한 전도성 MOF로 적용 범위를 넓히고, 대면적 박막의 균일성과 미세 패터닝 정밀도, 공정 재현성, 장기 신뢰성 검증이 남은 과제
원문 · 전자신문 — KAIST, 맞춤형 전극 설계 기반 마련...저전력 반도체 개발 활용 기대
원문을 Claude 가 요약·정리하고 코드 검사(원문에 없는 수치·화학식, 가격, 상대 시점, 투자 권유, 과장 표현 차단)를 통과한 글입니다. 연구의 주장과 평가는 원 논문·발표처의 것입니다. 오류는 contact@qpx.kr.
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