장비·소재·부품SK하이닉스-비아트론, 에피택시 장비 개발 — 3D D램 적층 공정용
비아트론이 산업통상부가 주관하는 소재·부품·장비 으뜸기업으로 선정돼 SK하이닉스와 함께 3D 수직적층 메모리용 장비 개발 과제에 참여한다. 이 과제는 실리콘(Si)과 실리콘게르마늄(SiGe) 증착과 웨이퍼 계측·검사를 융합해 시간당 처리량(UPH) 5매 이상의 고생산성 에피택시 장비를 만드는 것을 목표로 하며, 총 120억원 규모다. 연구 기간은 올해부터 2029년까지이며, 목표 생산 능력은 연간 20대 이상이다. 비아트론은 이 과제에서 SK하이닉스와 협력해 Si/SiGe 적층 장비를 개발한다.
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