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삼성전자·ASML, 12인치 포토마스크 공동개발 나서

AI타임스·2026-09-08

요약

삼성전자와 ASML이 기존 6인치 포토마스크를 12인치로 확대하는 공동 개발에 나선다고 9월 8일 발표했다. 삼성전자는 ASML 주도의 대형 마스크 컨소시엄에 참여해 12인치 포토마스크 개발을 위한 공동 연구와 표준화 작업을 진행할 계획이다. 양사는 2028년 업계 최초로 차세대 D램 생산에 하이 NA EUV 노광 장비를 도입한다는 계획도 함께 밝혔다. 포토마스크는 반도체 미세 회로 패턴을 새기는 데 쓰이는 핵심 부품이다.

큐레이터 노트

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포토마스크 규격 확대와 하이 NA EUV 도입은 노광·마스크 기술이 함께 뒷받침돼야 하는 문제로, 삼성전자가 장비사인 ASML과 표준화 단계부터 협력한다는 점에서 단순 장비 구매를 넘어선 기술 로드맵 공동 설계로 볼 수 있다.

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